第315章 第315节 （3/4）
接着，他又指向一间挂满工程图的办公室：“还有就是国际环境的微妙变化。西方在5-6英寸这个层面已部分放开。我们通过一些特殊渠道，引进了一些关键的监控设备、温控系统和部分替代性的辅助设备。”
何建中继续说道，“这几年，我们与俄罗斯的相关技术人员，做了不少交流，也邀请了好些位国外专家，获益匪浅，他们的技术人员给了我们极其重要的启发！”
孙明远听完，相当满意，“好！非常好！当初你说可以做到，我还有些不放心，现在这进度，这思路，比我预期的还要快、还要稳！6英寸一旦搞定，下一步？”
“8英寸！”何建中毫不犹豫，“6英寸的设备和经验会形成坚实的基础，我们已经启动8英寸硅片的技术预研和关键装备的布局，这是一个跳跃，但我们有路径图了！”
车队没有停歇，驶入了一片技术等级更显神秘的区域，这里名义上是上海电力的研发中心，实际上却是孙明远的光刻机研发部门，其母公司是长安精密机械公司，表面上与孙明远没有任何关系。
长安精密机械公司实际上是孙明远给华实出钱，华实会同成飞一起合作开发，用于中高端数控机床和各类精密设备的研发。
为了这家公司的发展，孙明远可是下了血本，不仅仅从见钱眼开的英国想办法引进各种设备，也花大价钱从老毛子引进设备和人才，硬生生堆出来的国之重器。
“这是我们在研的后道光刻机。”负责这个项目的赵研究员指着一个相对小巧的光刻设备单元介绍，“后道光刻用于芯片制造后段的封装、划片、打线等环节，精度要求相对较低，难度较小，我们已经取得了突破！”
“我们整合了国产的光学镜头、欧洲进口的步进电机、英国生产的精密导轨系统，现在样机的重复定位精度和线宽控制已经达到封装应用的要求，预计一年内可定型量产，部分替代进口，满足我们自身需求……”
孙明远点点头，接着去考察另外一个关键设备，液晶面板光刻机，主要用于在玻璃基板上制造TFT晶体管阵列和彩色滤光片图案。
“液晶光刻对套刻精度要求也不如CPU光刻那么极端，线宽通常在3-5微米，我国理论上可以研发，但难点在基板尺寸巨大……”
赵研究员介绍道，“我们与中科院和机电委员会下属研究机构合作，主攻大视场投影光学系统和平行光照射，进展比较顺利，预计明年上半年第一代样机可以出来……”
这些也就罢了，说到底技术难度不算大，但等到365nm光源的 i线前道光刻机，负责的孔研究员告诉他两年内机器就可以上生产线。
虽然这种光刻机光源属于汞灯光源，虽然从东德和前苏联搞来了不少技术，虽然从英国搞来了一些欧美封锁的激光干涉仪等产品，但孙明远很清楚，目前国内的技术能力是有限的，i线前道光刻机没那么容易突破，他让研发主要是练手。
所以孙明远皱眉道，“我对前道光刻机的要求不高，你们把相关实验做扎实了，砍柴不误磨刀时！”
顿了顿，他强调道，“这两年我搞飞机发动机，发现国内搞了几十年，都没有搞出真正堪用的航空发动机，除了上级拨款不够，对时间卡得紧，指标又定得高以外，也跟咱们的同志做事不细致，很多该做的试验草草了事有关。
我要的是真正能够对外销售的光刻机，不是向上级报喜的攻关项目，光刻机搞出来后，不仅自己用，还要想办法对外出口，你们不要把国内研究机构的破毛病带进来！
我宁愿你们慢慢来，也不希望你们先给我一个惊喜，但上了生产线，这个问题，那个问题，实际上不能用！
我这个资本家给钱爽快不假，但我眼里揉不得沙子，我投了钱，没有结果，我是要算账的，到时候让赔钱都是客气的！”
这番话说的非常不客气，吴枢机和米市长自然要打圆场，孙明远也没有继续，而是来到了他固执己见推行的液浸光刻机项目。
负责这个项目，并不是国内技术人员，而是孙明远费尽心思挖来的林本坚博士，“孙先生，您好，欢迎指导！”
林本坚博士带着孙明远来到一处实验装置，那里密布着略显陈旧的激光器、镜片组、复杂的水槽和管路系统，这里面有很多来自于林本坚在IBM的技术积累，粗粗估计，光光这些，就给孙明远节省了几百万美元。
而这一切甚至于还不是孙明远有意为之，IBM出现巨大亏损，正在转型，一些看起来不那么重要的项目组被撤销，这就便宜了很多美国高科技公司和孙明远，林本坚仅仅是他的一部分收获……
林博士的神色变得专注而充满挑战的兴奋：“先生，这里就是我负责的浸没式光刻原型验证项目，条件有限，我使用早期汞灯光源（436nm波长）步进式光刻机进行改造实验。
虽然早期汞灯光源波长较长，但原理是共通的——关键在于验证液体作为浸没层对提升等效数值孔径的理论可行性！”
林本坚引着大家走到观察窗：“请诸位看现在进行的关键步骤。”
在光刻机的物镜下方，不再是传统的空气。一层经过特殊设计的、极其纯净的液体（并非纯水，而是为436nm优化折射率的特制油），以精密可控的方式，覆盖在涂有感光胶的硅片表面！
物镜的末端，稳稳地浸入在这一层薄薄的液体之中！旁边标志性的汞灯光源发出特有的可见光偏紫色的光芒。
吴枢机眉头紧锁，技术思维的惯性让他困惑，“林教授，这液体难道不会污染精密光学元件、产生气泡扰乱光路吗？”
“确实有这个问题，但有办法克服！”
就在此时，现场实验指挥官下达指令，光源激发，光线穿透特殊油层，在硅片表面的光刻胶上瞬间完成了复杂图形的一次曝光。高精度移动台平稳移动，准备下一次曝光，实验完成后，硅片被迅速送往隔壁的显影分析实验室。
孙明远默默等待着，几十分钟后，分析报告抵达林本坚手中，他仔细审视着线宽测量数据、图形边缘陡峭度、分辨率极限测试图案的清晰度，以及最关键的，浸没与非浸没条件下的分辨率对比图谱！
他向孙明远介绍：“孙先生，您看，主要技术指标全部达到预期设计线宽，虽然原型改造粗糙，还存在诸多工程挑战，比如液体挥发控制、稳定性、对光学元件的长期影响等等，都需要仔细研究。
但在同等条件下，对比未浸没的同台机器，分辨率提升幅度完全符合理论计算，浸没技术路径在光学原理层面的可行性，被证实了……”
他看向孙明远，不断游说着，“现在国外新一代光源是248nm，但大陆基本没有开发，就算投资几亿美元开发，也会遇到各种专利的阻拦。